a-Si:H/a-SiN:H 계면에서 각각 phosphorus로 도핑된 층이 TFT 이동도에 미치는 영향지정환이상권김병주문영순1974-최시영1949-텍스트학술논문서울ulk한국진공학회20110209단행자료한국어application/pdf1 p.accessborn digital일반이용자554.9205한국진공학회 학술발표회초록집제40회 (20110209), p. 254-254CNTS-00056466571http://www.dbpia.co.kr/view/ar_view.asp?arid=1740346국립중앙도서관4한국G701:C-00056472691TFT, 이동도, 계면국립중앙도서관2012062813171120120628131711CDTS20120321124CNTS-00056472691