01596na  a2200337   4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002800093245029500121300002100416545006200437545006200499545006800561545006500629545011700694546002500811653008000836700001900916700001400935700001400949700004800963700004801011773011501059900001801174900001601192900001701208900001701225900001601242KSI00095177820180524173637180516s2018    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a420.5b안495ㅅc68(1)00a펄스스퍼터증착법으로 성장한 AlN 박막의 열처리에 따른 결정성 변화에 관한 고찰 =xStudy on the crystallinity change caused by heat treatment of AlN thin films grown by using pulsed sputter deposition /d최준석,e고동완,e조성민,e이상태,e장지호  ap. 20-24 ;c29cm  a최준석, 한국해양대학교 전자소재공학전공  a고동완, 한국해양대학교 전자소재공학전공  a조성민, 한국해양대학교 해양과학기술융합학과  a이상태, 한국해양대학교 해양플랜트운영학과  a장지호, 한국해양대학교 전자소재공학전공 ; 한국해양대학교 해양과학기술융합학과  a영어 요약 있음  aAlNaPSDaXRDa열처리a결정성 변화aAnnealingaCrystallinity change1 a최준석4aut1 a고동완1 a조성민1 a이상태,g李相泰,d1958-0KAC2017149641 a장지호,g張志豪,d1967-0KAC2018313060 t새물리.d한국물리학회.g68권 1호(2018년 1월), p. 20-24q68:1<20w(011001)KSE199508521,x0374-491410aChoi, Junseck10aKo, Dongwan10aCho, Sungmin10aLee, Sangtae10aChang, Jiho