01309nam a2200277 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002400093245022700117246008700344246008000431300002400511545002800535545005000563545006600613653008100679700001900760700001400779700004800793773014200841900001500983900001600998900001701014KSI00092435020141010104954140919s2013    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a431.4705b한597ㅈ00a축전식 탈염 공정의 액상 유기물에 따른 질소(N) 및 인(P) 처리 특성 =xEffects of N & P treatment based on liquid organic materials for capacitive deionization(CDI) /d이보람,e정인조,e박수길30a축전식 탈염 공정의 액상 유기물에 따른 질소 및 인 처리 특성30a축전식 탈염 공정의 액상 유기물에 따른 N 및 P 처리 특성  ap. 123-128 ;c29 cm  a이보람, ㈜퓨리켐  a정인조, 경기대학교 신소재공학과  a박수길, 충북대학교 공업화학과bsgpark@cbnu.ac.kr  aCDIaCapacitive deionizationaOrganic materialaNH₃aH₃PO₄aNH3aH3PO41 a이보람4aut1 a정인조1 a박수길,g朴秀吉,d1956-0KAC2018248950 t전기화학회지.d한국전기화학회.gVol.16 No.3(2013년 8월), p. 123-128q16:3<123w(011001)KSE199901118,x1229-1935a17971191510aLee, Boram10aJeong, Injo10aPark, Soogil