02171nam a2200505 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052003100096245030600127246009000433246009600523300002100619545006600640545004900706545005600755545005600811545005600867545005600923545005600979545004401035545004401079653004701123700001901170700001401189700003601203700001401239700001401253700003601267700001401303700004801317700001401365773012601379900001801505900001701523900001701540900001801557900001701575900001901592900001901611900001701630900001801647KSI00089871920111025132923ta110827s2008    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a367.43305b한513ㅎc9(1)00aSIMS depth profiling을 이용한 동선(copper wires)의 표면 산화 및 흡착에 대한 연구 =xStudy of thermal oxidization and adsorption in the copper wire using SIMS depth profiling /d박종진,e홍태은,e이동계,e조영진,e서영일,e문병선,e박종찬,e박혁규,e이정식30aSIMS depth profiling을 이용한 동선의 표면 산화 및 흡착에 대한 연구30aSIMS depth profiling을 이용한 copper wires의 표면 산화 및 흡착에 대한 연구  ap. 6-10 ;c28 cm  a박종진, 경성대학교 물리학과bvortex820@nisi.go.kr  a홍태은, 한국기초과학지원연구원  a이동계, 국립과학수사연구소 남부분소  a조영진, 국립과학수사연구소 남부분소  a서영일, 국립과학수사연구소 남부분소  a문병선, 국립과학수사연구소 남부분소  a박종찬, 국립과학수사연구소 남부분소  a박혁규, 부산대학교 물리학과  a이정식, 경성대학교 물리학과  aSIMSaCopper wireaOxidizationaAdsorption1 a박종진4aut1 a홍태은1 a이동계,d1970-0KAC2018517251 a조영진1 a서영일1 a문병선,d1968-0KAC2018501881 a박종찬1 a박혁규,g朴赫圭,d1958-0KAC2016332371 a이정식0 t한국법과학회지.d한국법과학회.g제9권 1호(2008년 6월), p. 6-10q9:1<6w(011001)KSE200301418,x1598-071510aPark, Jongjin10aHong, Taeeun10aLee, Dongkye10aCho, Youngjin10aSeo, Youngil10aMoon, Byungsun10aPark, Jongchan10aPak, Hyukkyu10aLee, Jeongsik