01723nam a2200385 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002500096245023800121300002400359545005300383545005300436545005300489545005300542545005300595545010000648653016600748700005300914700001400967700001400981700001400995700001401009700004801023773013601071856002101207900001801228900002001246900001801266900001701284900001901301900001701320KSI00083324320100814135612ta100721s2005    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a550.5b대446c29(7)00aCMP시 SiO₂ 슬러리의 마찰 특성과 연마결과에 관한 연구 =x(A)study on frictional characteristics and polishing result of SiO₂ slurry in CMP /d이현섭,e박범영,e서헌덕,e정재우,e정석훈,e정해도  ap. 983-989 ;c26 cm  a이현섭, 부산대학교 정밀기계공학과  a박범영, 부산대학교 정밀기계공학과  a서헌덕, 부산대학교 정밀기계공학과  a정재우, 부산대학교 정밀기계공학과  a정석훈, 부산대학교 정밀기계공학과  a정해도, 회원, 부산대학교 정밀정형 및 금형가공 연구소bhdjeong@pusan.ac.kr  a화학기계적 연마a실리카 슬러리a마찰력a마찰에너지a마찰계수aCMPaSiO2 slurryaFriction forceaFriction energyaCoefficient of friction1 a이현섭,g李顯燮,d1976-0KAC2018484344aut1 a박범영1 a서헌덕1 a정재우1 a정석훈1 a정해도,g丁海島,d1961-0KAC2013114060 t대한기계학회논문집.d대한기계학회.g29권 7호(2005년 7월), p. 983-989q29:7<983w(011001)KSE199600637,x1226-487340u75075848aKd00010aLee, Hyunseop10aPark, Boumyoung10aSeo, Heondeok10aJung, Jaewoo10aJeong, Sukhoon10aJeong, Haedo