01469nam a2200277 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002500096245022200121300002600343545006500369545005700434545007900491653026300570700005300833700004800886700004800934773013900982856002101121900001601142900001601158900001701174KSI00083327220100816135551ta100721s2002    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a550.5b대446c26(7)00a나노 압입곡선의 이론적 분석을 통한 박막의 잔류응력 평가 =xEvaluation of thin film residual stress through the theoretical analysis of nanoindentation curve /d이윤희,e장재일,e권동일  ap. 1270-1279 ;c26 cm  a이윤희, 회원, 서울대학교 대학원 재료공학부  a장재일, 회원, (주)프론틱스 연구개발부  a권동일, 회원, 서울대학교 재료공학부bdongilk@gong.snu.ac.kr  a나노 압입시험a박막 잔류응력a압입하중-변위곡선a접촉 형상a압입하중 제어 응력완화aNanoindentation techniqueaThin film residual stressaIndentation load-depth curveaContact morphologyaLoad controlled-stress relaxation 151 a이윤희,g李閏熙,d1974-0KAC2017356984aut1 a장재일,g張宰溢,d1968-0KAC2018M15461 a권동일,g權東一,d1957-0KAC2016373160 t대한기계학회논문집.d대한기계학회.g26권 7호(2002년 7월), p. 1270-1279q26:7<1270w(011001)KSE199600637,x1226-487340u75064041aKd00010aLee, Yunhee10aJang, Jaeil10aKwon, Dongil