01500nam a2200313 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052003400096245028500130300002200415545006700437545005000504545005000554545005000604653019400654700001900848700001400867700001400881700004800895773014300943856002101086900002001107900001701127900002201144900002001166KSI00080489220100626104208ta100503s2006    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a552.05b한438ㅎㅅc2006(1)00a국부 방전 효과를 이용한 고휘도 집속 이온빔용 유도결합 플라즈마 이온원의 개발 =xDevelopment of inductively coupled plasma ion source for high brightness focused ion beam using local discharge effect /d박용신,e김윤재,e정형설,e황용석  ap. 17-21 ;c26 cm  a박용신, 서울대학교 원자핵공학과bbluer@snu.ac.kr  a김윤재, 삼성전자(주) 반도체 총괄  a정형설, 서울대학교 원자핵공학과  a황용석, 서울대학교 원자핵공학과  aPlasma ion sourceaBrightnessaMicro aperture extractionaInductively coupled plasmaaBias electrodea국부 방전 효과a고휘도 집속 이온빔용 유도결합 플라즈마 이온원1 a박용신4aut1 a김윤재1 a정형설1 a황용석,g黃鏞錫,d1961-0KAC2013333431 t(한국공작기계학회)학술대회 논문집.d韓國工作機械學會.g2006 春季(2006), p. 17-21q2006:1<17w(011001)KSE20020194340u77058589aKd00010aPark, Yeongshin10aKim, Yoonjae10aJeong, Hyeongseol10aHwang, Yongseok