01625nam a2200313 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002900096245029800125300002600423545008600449545008600535545008600621545007300707653012900780700004100909700004800950700003600998700004801034773013601082856002101218900001701239900001901256900001801275900001801293KSI00080422820100614195506ta100430s1995    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a560.5b대483ㄱc44(10)00aRF 마그네트론 스퍼터링법으로 제조된 차폐용 NbTi박막의 우선방향에 미치는 스퍼터링 압력의 영향 =xEffects of sputtering pressure on preferred orientation of shielding NbTi thin film by RF magnetron sputtering /d金峯瑞,e禹炳哲,e邊雨奉,e李熙雄  ap. 1317-1322 ;c30 cm  a김봉서, 정회원, 한국전기연구소 도전재료연구팀 선임연구원  a우병철, 정회원, 한국전기연구소 도전재료연구팀 선임연구원  a변우봉, 정회원, 한국전기연구소 도전재료연구팀 선임연구원  a이희웅, 정회원, 한국전기연구소 도전재료연구팀장  aSputtering pressureaShielding NbTi thin filmaPreferred orientationaTexture coefficienta우선방향a스퍼터링 압력1 a김봉서,d1966-0KAC2016362144aut1 a우병철,g禹炳哲,d1964-0KAC2018501201 a변우봉,d1959-0KAC2018440721 a이희웅,g李熙雄,d1955-0KAC2017007500 t전기학회논문지.d대한전기학회.g44卷 10號(1995년 10월), p. 1317-1322q44:10<1317w(011001)KSE199508722,x0254-417240u76613918aKd00010aKim, Bongseo10aWoo, Byungchul10aByun, Woobong10aLee, Heewoong