01626nam a2200349 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002800096245022400124300002600348545009200374545009200466545009200558545009200650545009200742653010400834700001900938700001400957700003600971700001401007700001401021773013601035856002101171900001701192900001801209900001601227900001801243900001501261KSI00080360220100612195459ta100429s1994    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a560.5b대483ㄱc43(8)00a방전여기형 XeCl 엑시머 레이저의 제작 및 동작 특성 =xFabrication of a discharge pumped XeCl excimer laser and its operation characteristics /d李弘植,e盧永秀,e陳潤植,e金潤澤,e金熙齊  ap. 1756-1761 ;c30 cm  a이홍식, 정회원, 한국전기연구소 플라즈마응용연구팀 책임연구원  a노영수, 정회원, 한국전기연구소 플라즈마응용연구팀 선임연구원  a진윤식, 정회원, 한국전기연구소 플라즈마응용연구팀 선임연구원  a김윤택, 정회원, 한국전기연구소 플라즈마응용연구팀 선임연구원  a김희제, 정회원, 한국전기연구소 플라즈마응용연구팀 선임연구원  aDischarge pumpedaExcimer laseraXeClaOptimum HCl concentrationa방전여기a엑시머 레이저1 a이홍식4aut1 a노영수1 a진윤식,d1963-0KAC2017300551 a김윤택1 a김희제0 t전기학회논문지.d대한전기학회.g43卷 10號(1994년 10월), p. 1756-1761q43:10<1756w(011001)KSE199508722,x0254-417240u76613682aKd00010aLee, Hongsik10aRho, Youngsoo10aJin, Yunsik10aKim, Yoontaek10aKim, Heeje