01352nam a2200277 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002800096245024100124300002200365545007300387545007300460545006700533653015700600700005300757700001400810700004800824773012700872856002100999900002001020900001701040900001701057KSI00080590820100720195453ta100506s1993    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a560.5b대483ㄱc42(7)00a초음파분무 열분해법으로 제조한 불소 도핑 이산화주석 박막의 수소플라즈마 내구성 =xHydrogen plasma durability of SnO₂:F films prepared by pyrosol deposition method /d尹慶勳,e宋鎭洙,e姜埼煥  ap. 50-57 ;c30 cm  a윤경훈, 정회원, 한국에너지기술연구소 책임연구원  a송진수, 정회원, 한국에너지기술연구소 책임연구원  a강기환, 정회원, 한국에너지기술연구소 기술원  aPyrosol depositionaSnO2:F filmsaTransparent conducting oxidesaHydrogen plasma durabilitya수소플라즈마 내구성a불소 도핑 이산화주석1 a윤경훈,g尹慶勳,d1952-0KAC2012208134aut1 a송진수1 a강기환,g姜埼煥,d1967-0KAC2016076630 t전기학회논문지.d대한전기학회.g42卷 9號(1993년 9월), p. 50-57q42:9<50w(011001)KSE199508722,x0254-417240u76613642aKd00010aYoon, Kyunghoon10aSong, Jinsoo10aKang, Gihwan