02096nam a2200445 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052003700096245026300133300002400396545008100420545008100501545008100582545008100663545008100744545008100825545008100906545010000987653010601087700001901193700001401212700001401226700001401240700001401254700001401268700004801282700004801330773013301378900001701511900001801528900001901546900001801565900001701583900001701600900001801617900001501635KSI00077551020091005100721ta090720s2007    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a530.405b한596ㅎc17(9)-17(12)00a다층 RIE electrode를 이용한 아크릴의 O₂/N₂ 플라즈마 건식 식각 =xO₂/N₂ plasma etching of acrylic in a multi-layers electrode RIE system /d김재권,e김주형,e박연현,e주영우,e백인규,e조관식,e송한정,e이제원  ap. 642-647 ;c30 cm  a김재권, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소  a김주형, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소  a박연현, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소  a주영우, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소  a백인규, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소  a조관식, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소  a송한정, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소  a이제원, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소bjwlee@hotmail.com  a아크릴a플라즈마 건식aAcrylicaPolymer etchingaPlasma etchingaMulti-layers electrodeaRIE1 a김재권4aut1 a김주형1 a박연현1 a주영우1 a백인규1 a조관식1 a송한정,g宋漢廷,d1963-0KAC2012067181 a이제원,g李濟原,d1969-0KAC2018467060 t한국재료학회지.d韓國材料學會.g17권 12호(2007년 12월), p. 642-647q17:12<642w(011001)KSE199509224,x1225-056210aKim, Jaekwon10aKim, Juhyeong10aPark, Yeonhyun10aJoo, Youngwoo10aBaek, Inkyeu10aCho, Guansik10aSong, Hanjung10aLee, Jewon