01582nam a2200337 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052003700096245024400133300002400377545007700401545007700478545007700555545009500632545007700727653008100804700001900885700001400904700001400918700004800932700004800980773013301028900001701161900001601178900001701194900001501211900001801226KSI00077287620091021100700ta090710s2003    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a530.405b한596ㅎc13(7)-13(12)00aBCl₃ 기반의 혼합가스들을 이용한 InP 고밀도 유도결합 플라즈마 식각 =xHigh density inductively coupled plasma etching of InP in BCl₃-based chemistries /d조관식,e임완태,e백인규,e이제원,e전민현  ap. 775-778 ;c30 cm  a조관식, 인제대학교 나노공학부, 나노기술 응용연구소  a임완태, 인제대학교 나노공학부, 나노기술 응용연구소  a백인규, 인제대학교 나노공학부, 나노기술 응용연구소  a이제원, 인제대학교 나노공학부, 나노기술 응용연구소bjwlee@Inje.ac.kr  a전민현, 인제대학교 나노공학부, 나노기술 응용연구소  aICPaDry etchingaInPaHDPICPaBCl3a혼합가스a유도결합 플라즈마1 a조관식4aut1 a임완태1 a백인규1 a이제원,g李濟原,d1969-0KAC2018467061 a전민현,g全民鉉,d1957-0KAC2017130180 t한국재료학회지.d韓國材料學會.g13권 12호(2003년 12월), p. 775-778q13:12<775w(011001)KSE199509224,x1225-056210aCho, Guansik10aLim, Wantae10aBaek, Inkyoo10aLee, Jewon10aJeon, Minhyun