01005nam a2200193 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052003000096245023900126300002200365545006300387653016500450700005300615773012700668900001600795KSI00076138420091022100634ta090609s2000    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a530.405b한596ㅎc10(1)00aSputtering법으로 제조된 tungsten nitride 박막의 저항변화에 미치는 급속 열처리 영향 =xEffect of rapid thermal annealing on the resistivity changes of reactively sputtered tungsten nitride thin film /d이기선  ap. 29-33 ;c30 cm  a이기선, 공주대학교 공과대학 신소재공학부  aAmorphous materialsaElectrical propertiesaPhase transformationaThin filmaSegregationaSputtering법aTungsten nitride 박막a저항변화a급속 열처리1 a이기선,g李基先,d1964-0KAC2018443434aut0 t한국재료학회지.d韓國材料學會.g10권 1호(2000년 1월), p. 29-33q10:1<29w(011001)KSE199509224,x1225-056210aLee, Keesun