01216nam a2200265 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002900096245026500125300002400390545004700414545004700461545004700508653013100555700001900686700001400705700004800719773012800767900001800895900001900913900001800932KSI00076417920091005100628ta090619s1999    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a530.405b한596ㅎc9(1)00a유기금속 화학증착법에 의해 sputtered-Ru/polysilicon 위에 증착된 Pt 전극의 특성 =xCharacterization of Pt bottom electrode deposited on sputtered-Ru/polysilicon by metalorganic chemical vapor deposition /d최은석,e양정환,e윤순길  ap. 368-372 ;c30 cm  a최은석, 충남대학교 재료공학과  a양정환, 충남대학교 재료공학과  a윤순길, 충남대학교 재료공학과  a유기금속 화학증착법aPt 전극aSputtered-Ru/polysiliconaPt bottom electrodeaMetalorganic chemical vapor deposition1 a최은석4aut1 a양정환1 a윤순길,g尹順吉,d1959-0KAC2017001730 t한국재료학회지.d韓國材料學會.g9권 4호(1999년 4월), p. 368-372q9:4<368w(011001)KSE199509224,x1225-056210aChoi, Eunsuck10aYang, Junghwan10aYoon, Soongil