01681nam a2200373 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002900096245026700125300002400392545005300416545006200469545006200531545006200593545005300655545006200708653010800770700001900878700004800897700003600945700004800981700003601029700001401065773012801079900001601207900001601223900001701239900001601256900001901272900001601291KSI00076211520091005100622ta090612s1998    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a530.405b한596ㅎc8(7)00a트렌치 식각시 식각 방지막의 형성과 이들이 결함 생성에 미치는 영향 =xFormation of passivation layer and its effect on the defect generation during trench etching /d이주욱,e김상기,e김종대,e구진근,e이정용,e남기수  ap. 634-640 ;c30 cm  a이주욱, 한국과학기술원 재료공학과  a김상기, 한국전자통신연구원 반도체연구단  a김종대, 한국전자통신연구원 반도체연구단  a구진근, 한국전자통신연구원 반도체연구단  a이정용, 한국과학기술원 재료공학과  a남기수, 한국전자통신연구원 반도체연구단  a트렌치 식각a식각 방지막a결함 생성aTrench etchingaPassivation layeraDefect generation1 a이주욱4aut1 a김상기,g金相基,d1957-0KAC2018453501 a김종대,d1954-0KAC2018479391 a구진근,g具珍根,d1956-0KAC2016372351 a이정용,d1951-0KAC2013292771 a남기수0 t한국재료학회지.d韓國材料學會.g8권 7호(1998년 7월), p. 634-640q8:7<634w(011001)KSE199509224,x1225-056210aLee, Juwook10aKim, Sanggi10aKim, Jongdae10aKoo, Jingun10aLee, Jeongyong10aNam, Keesoo