01288nam a2200313 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002200096245020500118300002400323545003100347545003100378545003100409545003100440653012500471700005300596700001400649700004800663700004800711773012500759856002000884900001700904900001800921900001700939900001800956KSI00075311320090825142339ta090514s1994    gnk        VG 000   kor    a0110010 akorbeng01a530.05b창287c800a저압의 유기금속 화학증착법에 의해 성장된 Ta₂O₅ 박막의 계면물성 =xInterfacial propeties of Ta₂O₅ thin films by LPMOCVD /d김명호,e윤재홍,e이찬규,e박태곤  ap. 231-236 ;c26 cm  a김명호, 재료공학과  a윤재홍, 재료공학과  a이찬규, 재료공학과  a박태곤, 전기공학과  a저압의 유기금속 화학증착법aTa₂O₅ 박막a계면물성aTa2O5 thin filmsaInterfacial propetiesaLPMOCVD1 a김명호,g金明鎬,d1953-0KAC2018376644aut1 a윤재홍1 a이찬규,g李贊揆,d1955-0KAC2018179301 a박태곤,g朴泰坤,d1954-0KAC2013074230 t産技硏論文集.d昌原大學校 産業技術硏究所.g8집(1994년 6월), p. 231-236q8<231w(011001)KSE19950549040u2029334aKd00210aKim, Myongho10aYoon, Jaehong10aLee, Changyu10aPark, Taegone