01675nam a2200337 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052003700096245020200133300002400335545008200359545008300441545008600524545008100610545008700691653013300778700005300911700001400964700003600978700001401014700004801028773017201076900001701248900001801265900001801283900001901301900001701320KSI00073102520081209134928ta081204s2004    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a569.9305b제567ㅈc10(5)-10(8)00a다중 디스펜싱 방법에 의한 UV-나노임프린트 리소그래피 =xUV nanoimprint lithography using a multi-dispensing method /d정준호,e심영석,e손현기,e신영재,e이응숙  ap. 604-610 ;c30 cm  a정준호, 한국기계연구원 나노메카니즘그룹bjhjeong@kimm.re.kr  a심영석, 한국기계연구원 나노메카니즘그룹bsimsimhe@kimm.re.kr  a손현기, 한국기계연구원 레이저응용시스템그룹bhsohn@kimm.re.kr  a신영재, 한국기계연구원 나노메카니즘그룹byjshin@kimm.re.kr  a이응숙, 한국기계연구원 지능형정밀기계연구부bles648@kimm.re.kr  aUV-nanoimprint lithographyaNanostampaNanofabricationaQuartz stampa다중 디스펜싱aUV-나노임프린트 리소그래피1 a정준호,g鄭俊豪,d1968-0KAC2018467134aut1 a심영석1 a손현기,d1970-0KAC2017019211 a신영재1 a이응숙,g李應淑,d1958-0KAC2017004550 t제어·자동화·시스템공학 논문지.d제어·자동화·시스템공학회.g10권 7호(2004년 7월), p. 604-610q10:7<604w(011001)KSE199900457,x1225-984510aJeong, Junho10aSim, Youngsuk10aSohn, Hyonkee10aShin, Youngjae10aLee, Eungsuk