01850nam a2200361 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003600093245033500129300002300464545008300487545006200570545006200632545006200694545005000756545005800806653015900864700001901023700004801042700004801090700004801138700001401186700004801200773013701248900001801385900001801403900001701421900001601438900001701454900001701471KSI00063063020070912102858070726s2005    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a581.805b한636ㅎc38(1)-38(6)00a펄스형 진공 아크법에 의한 ZnO 박막의 상온합성 및 이의 전기적 특성에 미치는 산소분압비의 영향=xRoom-temperature deposition of ZnO thin film by pulsed vacuum arc and effect of oxygen gas ratio on its electrical properties/d신민근,e변응선,e이성훈,e김도근,e전상조,e구본흔  ap. 193-197;c26 cm  a신민근, 창원대학교 나노·신소재공학부besbyon@kmail.kimm.re.kr  a변응선, 한국기계연구원 표면기술연구센터  a이성훈, 한국기계연구원 표면기술연구센터  a김도근, 한국기계연구원 표면기술연구센터  a전상조, 국방품질관리소 함정분소  a구본흔, 창원대학교 나노·신소재공학부  a펄스형 진공 아크법a상온합성a산소분압비aZnO filmaPulsed vacuum arcaOxygen gas ratioaElectrical propertyaRoom-temperature deposition1 a신민근4aut1 a변응선,g邊應善,d1963-0KAC2016372151 a이성훈,g李性薰,d1971-0KAC2018357741 a김도근,g金度根,d1971-0KAC2017514111 a전상조1 a구본흔,g具本欣,d1967-0KAC2016371820 t한국표면공학회지.d한국표면공학회.g38권 5호(2005년 10월), p. 193-197q38:5<193w(011001)KSE199509175,x1225-802410aShin, Mingeun10aByon, Eungsun10aLee, Sunghun10aKim, Dogeun10aJeon, Sangjo10aKoo, Bonheun