01341nam a2200289 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002900093245017200122300002300294545005900317545005900376545005900435545008200494653014300576700004100719700001400760700003600774700003600810773013600846900001800982900001701000900001701017900001701034KSI00064764720071004134252070823s2005    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a555.05b한613ㅈc22(5)00aFIB를 이용한 마이크로 플라즈마 전극 개발=xDevelopment of micro plasma electrode using focused ion beam/d최헌종,e강은구,e이석우,e홍원표  ap. 175-180;c26 cm  a최헌종, 한국생산기술연구원 나노가공팀  a강은구, 한국생산기술연구원 나노가공팀  a이석우, 한국생산기술연구원 나노가공팀  a홍원표, 한국생산기술연구원 나노가공팀bwonpyodr@kitech.re.kr  a마이크로 플라즈마 전극a나노가공기술aMicro plasma electrodeaFIBaFocused ion beamaNano machining technologyaSputtering1 a최헌종,d1955-0KAC2017038644aut1 a강은구1 a이석우,d1966-0KAC2016147001 a홍원표,d1971-0KAC2018492880 t한국정밀공학회지.d한국정밀공학회.g22권 5호(2005년 5월), p. 175-180q22:5<175w(011001)KSE199508376,x1255-907110aChoi, Honzong10aKang, Eungoo10aLee, Seokwoo10aHong, Wonpyo