01592nam a2200325 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002900093245019500122300002300317545005600340545005300396545005300449545002600502545006800528653026400596700005300860700004800913700001400961700001400975700004800989773013601037900002701173900001801200900001701218900001401235900001701249KSI00064655620071004134244070822s2005    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a555.05b한613ㅈc22(1)00a광조형법을 이용한 고분자 리소그래피에 관한 연구=x(A)study on the polymer lithography using stereolithography/d정영대,e이현섭,e손재혁,e조인호,e정해도  ap. 199-206;c26 cm  a정영대, 부산대학교 정밀정형협동과정  a이현섭, 부산대학교 정밀기계공학과  a손재혁, 부산대학교 정밀기계공학과  a조인호, 삼성 SDI  a정해도, 부산대학교 기계공학부bhdjeong@pusan.ac.kr  a마스크리스 패턴a광조형a감광성 레지스트a스핀 코터a에칭마스크a프라임공정a반경화수지a스트립aMaskless patterningaStereolithographyaSLAaPhotoresistaSpin coateraEtching maskaPrime processaSemi-cured resinaStrip1 a정영대,g鄭榮大,d1972-0KAC2016360244aut1 a이현섭,g李顯燮,d1976-0KAC2018484341 a손재혁1 a조인호1 a정해도,g丁海島,d1961-0KAC2013114060 t한국정밀공학회지.d한국정밀공학회.g22권 1호(2005년 1월), p. 199-206q22:1<199w(011001)KSE199508376,x1255-907110aJung, Youngdae,d1972-10aLee, Hyunseop10aSon, Jaehyuk10aCho, Inho10aJeong, Haedo