01346nam a2200277 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069052002900080245014700109300002100256545008800277545006800365545006800433545003700501653016000538700005300698700001400751700004800765700004800813773013300861900001700994900001901011900001701030900002101047KSI00064325620071004134156070816s2003    ulk           000   kor    a01100101a555.05b한613ㅈc20(3)00a나노임프린트 리소그래피 기술 동향=xTrend of nanoimprint lithography technology/d정준호,e신영재,e이응숙,e황경현  ap. 15-22;c26 cm  a정준호, 한국기계연구원 지능형정밀기계연구부bjhjeong@kimm.re.kr  a신영재, 한국기계연구원 지능형정밀기계연구부  a이응숙, 한국기계연구원 지능형정밀기계연구부  a황경현, 한국기계연구원  a나노임프린트 리소그래피a나노제작a나노구조물a나노생산aNanoimprint lithographyaNanofabricationaNanostructureaNanomanufacturing1 a정준호,g鄭俊豪,d1968-0KAC2018467134aut1 a신영재1 a이응숙,g李應淑,d1958-0KAC2017004551 a황경현,g黃瓊玹,d1952-0KAC2016243310 t한국정밀공학회지.d한국정밀공학회.g20권 3호(2003년 3월), p. 15-22q20:3<15w(011001)KSE199508376,x1225-907110aJeong, Junho10aShin, Youngjae10aLee, Eungsug10aWhang, Kyunghyun