01275nam a2200253 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002500093245022700118300002500345545007300370545007300443545006100516653018100577700005300758700001400811700001400825773013900839900001400978900001300992900001601005KSI00065124020071005125403070916s1995    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a550.5b대446c19(5)00a가열 또는 냉각되는 수평웨이퍼 표면으로의 입자침착에 관한 해석=xAnalysis of particle deposition onto a heated or cooled, horizontal free-standing wafer surface/d유경훈,e오명도,e명현국  ap. 1319-1332;c26 cm  a유경훈, 정회원, 생산기술연구원 생산설비개발센터  a오명도, 정회원, 생산기술연구원 생산설비개발센터  a명현국, 정회원, 국민대학교 자동차공학과  aParticle deposition velocitya입자침착속도aHorizontal free-standing wafera수평웨이퍼aTurbulent flow fielda난류유동장aThermophoretic effecta열영동효과1 a유경훈,g兪京勳,d1965-0KAC2017456174aut1 a오명도1 a명현국0 t大韓機械學會論文集.d大韓機械學會.g19卷 5號(1995년 5월), p. 1319-1332q19:5<1319w(011001)KSE199508415,x1225-596310aYoo, K.H.10aOh, M.D.10aMyong, H.K.