01546na  a2200301   4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003600093245034800129300002300477545005600500545009900556545005600655545005600711653012600767700001900893700004800912700001400960700004800974773014501022856002101167900001401188900001301202900001401215900001501229KSI00058438820070719164917070405s2003    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a559.705b대445ㄷc41(5)-41(8)00a에피탁시 성장시킨 BLT(B<TEX>$$i_{4-x}$$</TEX>L<TEX>$$a_x$$</TEX>Ti₃<TEX>$$O_{12}$$</TEX>) 박막의 부정합 응력 해소기구=xMechanisms of misfit strain relaxation in epitaxially grown BLT (B<TEX>$$i_{4-x}$$</TEX>L<TEX>$$a_x$$</TEX>Ti₃<TEX>$$O_{12}$$</TEX>, x=0.75) thin films/d김형석,e오상호,e서주형,e박찬경  ap. 362-368;c30 cm  a김형석, 포항공과대학교 신소재공학과  a오상호, 포항공과대학교 신소재공학과, 막스플랑크연구소(Metallforschung)  a서주형, 포항공과대학교 신소재공학과  a박찬경, 포항공과대학교 신소재공학과  aBLTaEpitaxial growthaMisfit strainaTransmission electron microscopyaTEMa에피탁시a부정합a응력 해소기구1 a김형석4aut1 a오상호,g吳相虎,d1973-0KAC2017359841 a서주형1 a박찬경,g朴贊卿,d1953-0KAC2013292820 t대한금속·재료학회지.d대한금속.재료학회.g41권 6호(2003년 6월), p. 362-368q41:6<362w(011001)KSE200000110,x1738-822840u30086582aKd00010aKim, H.S.10aOh, S.H.10aSuh, J.H.10aPark, C.G.