01423nam a2200289 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003500093245027500128300002300403545006600426545006600492545004800558545008600606653015800692700001400850700004800864700001400912700001400926773012400940900001401064900001801078900001801096900001901114KSI00053496120061116135942060720s2004    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a570.05b한437ㄱc15(1)-15(4)00a193 nm 포토레지스트용 산 증식제로 2-나프탈렌술폰산과 2-티오펜술폰산 에스테르에 관한 연구=x2-naphthalenesulfonate and 2-thiophenesulfonate esters as acid amplifiers for 193 nm photoresist/d소진호,e임권택,e최상준,e정연태  ap. 424-428;c30 cm  a소진호, 부경대학교 공과대학 화상정보공학부  a임권택, 부경대학교 공과대학 화상정보공학부  a최상준, 삼성전자 반도체 연구소  a정연태, 부경대학교 공과대학 화상정보공학부bytheong@pknu.ac.kr  aPhotoresistaAcid-amplifieraThermal stabilityaPhotosensitivitya193 nma포토레지스트a2-나프탈렌술폰산a2-티오펜술폰산a에스테르1 a소진호1 a임권택,g林權澤,d1958-0KAC2018058511 a최상준1 a정연태0 t공업화학.d한국공업화학회.g15권 4호(2004년 6월), p. 424-428q15:4<424w(011001)KSE199508910,x1225-011210aSo, Jinho10aLim, Kwontaek10aChoi, Sangjun10aJeong, Yeontae