01547nam a2200301 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003500093245037000128300002500498545006600523545006600589545006600655545008600721653012400807700001400931700001400945700004800959700001401007773012801021856002101149900001801170900002001188900001801208900001901226KSI00053392720061116135937060719s2003    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a570.05b한437ㄱc14(5)-14(8)00a포지티브 산 증식형 포토레지스트로 poly[(1-p-styrenesulfonyloxy-4-tosyloxycyclohexane)-co-(tert-butyl methacrylate)]의 합성 및 특성 연구=xSynthesis and characterization of poly[(1-p-styrenesulfonyloxy-4-tosyloxycyclohexane)-co-(tert-butyl methacrylate)] as positive acid-amplifying photoresists/d홍경일,e정용석,e임권택,e정연태  ap. 1116-1120;c30 cm  a홍경일, 부경대학교 공과대학 화상정보공학부  a정용석, 부경대학교 공과대학 화상정보공학부  a임권택, 부경대학교 공과대학 화상정보공학부  a정연태, 부경대학교 공과대학 화상정보공학부bytjeong@pknu.ac.kr  aAcid-amplifieraPhotoacid generatoraChemically amplified photoresista포지티브 산 증식형 포토레지스트로1 a홍경일1 a정용석1 a임권택,g林權澤,d1958-0KAC2018058511 a정연태0 t공업화학.d한국공업화학회.g14권 8호(2003년 12월), p. 1116-1120q14:8<1116w(011001)KSE199508910,x1225-011240u40115239aKd00010aHong, Kyongil10aJeong, Yongseok10aLim, Kwontaek10aJeong, Yeontae