01242nam a2200217 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003700093245025100130300002100381545010500402545005600507653019400563700005300757700004800810773012700858900001800985900002101003KSI00058092620060919105302060914s2004    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a554.9405b한622ㅎc13(1)-13(4)00a고분자 광도파로용 핫엠보싱 마스터의 표면거칠기 최소화를 위한 열산화 영향=xThermal oxidation effect for sidewall roughness minimization of hot embossing master for polymer optical waveguides/d최춘기,e정명영  ap. 34-38;c26 cm  a최춘기, 한국전자통신연구원, 기반기술연구소, 광접속모듈팀bcgchoi@etri.re.kr  a정명영, 부산대학교 나노과학기술학부  a핫엠보싱a고분자 광도파로a실리콘 마스터a깊은 반응성 이온식각a열산화aHot embossingaPolymeric optical waveguidesaSilicon masteraDeep-RIEaThermal oxidation1 a최춘기,g崔春沂,d1962-0KAC2018463954aut1 a정명영,g鄭命永,d1960-0KAC2017107570 t한국진공학회지.d韓國眞空學會.g13권 1호(2004년 3월), p. 34-38q13:1<34w(011001)KSE199508370,x1225-882210aChoi, Choongi10aJeong, Myungyung