00954nam a2200217 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052004000093245014500133300002500278545006700303545003700370653007500407700001900482700003600501773016200537900001900699900001800718KSI00054601120060824151338060802s2004    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a569.205b한597ㅈㄱc17(9)-17(12)00a오존수를 이용한 감광막 제거 공정에 관한 연구=x(A)study on photoresist strip process using DIO₃/d채상훈,e손영수  ap. 1143-1148;c26 cm  a채상훈, 호서대학교 전자공학과bshchai@hoseo.ac.kr  a손영수, 한국기계연구원  aOzoneaPR stripaDIO₃aPhotoresistaEfficiencya오존수a감광막1 a채상훈4aut1 a손영수,d1959-0KAC2018462430 t전기전자재료학회 논문지.d한국전기전자재료학회.gVol.17 no.11(2004년 11월), p. 1143-1148q17:11<1143w(011001)KSE199800338,x1226-794510aChai, Sanghoon10aSon, Youngsoo