01470nam a2200325 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003900093245021100132300002300343545005300366545005300419545005300472545007000525545005300595653008700648700005300735700001400788700003600802700004800838700001400886773015600900900001701056900001901073900001701092900001701109900001801126KSI00054105720060824151327060727s2003    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a569.205b한597ㅈㄱc16(5)-16(8)00aCI-based 플라즈마에 의한 YMnO₃박막의 식각 damage에 관한 연구=xStudy on etching damages of YMnO₃thin films by CI-based plasma/d박재화,e김경태,e김동표,e김창일,e장의구  ap. 449-453;c26 cm  a박재화, 중앙대학교 전자전기공학부  a김경태, 중앙대학교 전자전기공학부  a김동표, 중앙대학교 전자전기공학부  a김창일, 중앙대학교 전자전기공학부bcikim@cau.ac.kr  a장의구, 중앙대학교 전자전기공학부  aFerroelectricaYMnO₃aICPaDamageaEtchingaCI-based 플라즈마aYMnO₃박막1 a박재화,4autg朴在和,d1965-0KAC2017459381 a김경태1 a김동표,d1972-0KAC2016361161 a김창일,g金昌日,d1960-0KAC2018385741 a장의구0 t전기전자재료학회 논문지.d한국전기전자재료학회.gVol.16 no.6(2003년 6월), p. 449-453q16:6<449w(011001)KSE199800338,x1226-794510aPark, Jaehwa10aKim, Kyoungtae10aKim, Dongpyo10aKim, Changil10aChang, Euigoo