01654nam a2200361 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003800093245022100131300002100352545006600373545004700439545004700486545004800533545004800581545004800629653014500677700001900822700001400841700004800855700004800903700001400951700004800965773017301013900001701186900001901203900001701222900001901239900001701258900001701275KSI00055234720060810145800060808s2004    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a569.27405b한488ㅁc11(1)-11(4)00aNi-Cr 박막 저항의 특성에 미치는 열처리 조건의 영향=xEffect of annealing conditions on properties of Ni-Cr thin film resistor/d류승록,e명성재,e구본급,e강병돈,e류제천,e김동진  ap. 37-42;c26 cm  a류승록, 한밭대학교 재료공학과brsr5135@empal.com  a명성재, 한밭대학교 재료공학과  a구본급, 한밭대학교 재료공학과  a강병돈, (주)케이엠씨테크놀러지  a류제천, (주)케이엠씨테크놀러지  a김동진, (주)케이엠씨테크놀러지  aThin filmaMicrowaveaTemperature coefficient of resistanceaResistors evanohm alloys targeta72Ni-20Cr-3Al-4Mn-Sia박막 저항a열처리1 a류승록4aut1 a명성재1 a구본급,g具本及,d1959-0KAC2017014591 a강병돈,g姜秉墩,d1959-0KAC2020488751 a류제천1 a김동진,g金東鎭,d1944-0KAC2018H19790 t마이크로전자 및 패키징학회지.d한국마이크로전자 및 패키징학회.g11권 1호(2004년 3월), p. 37-42q11:1<37w(011001)KSE199900824,x1226-936010aRyu, Sungrok10aMyung, Sungjae10aKoo, Bonkeup10aKang, Beongdon10aRyu, Jeichun10aKim, Dongjin