01383nam a2200289 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003100093245022300124300002100347545005300368545004700421545004700468545005300515653012200568700001900690700004800709700004800757700004800805773017200853900001801025900001701043900001801060900001501078KSI00055165520060810145759060808s2002    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a569.27405b한488ㅁc9(4)00aICPHFCVD에 의한 탄소나노튜브의 수직 배향과 에칭을 이용한 Ni-tip의 제거=x(The)vertical alignment of CNTs and Ni-tip removal by etching at ICPHFCVD/d김광식,e장건익,e장호정,e류호진  ap. 55-60;c26 cm  a김광식, 한국화학연구원 화학소재부  a장건익, 충북대학교 재료공학과  a장호정, 단국대학교 전자공학과  a류호진, 한국화학연구원 화학소재부  aField emission displayaCarbon nanotubesaPurificationaPlasma etchingaEmitteraICPHFCVDa탄소나노튜브a에칭1 a김광식4aut1 a장건익,g張健翼,d1956-0KAC2018232511 a장호정,g張鎬廷,d1954-0KAC2012110731 a류호진,g柳鎬鎭,d1961-0KAC2018452490 t마이크로전자 및 패키징학회지.d한국마이크로전자 및 패키징학회.g9권 4호(2002년 12월), p. 55-60q9:4<55w(011001)KSE199900824,x1226-936010aKim, Kwangsik10aJang, Guneik10aChang, Hojung10aRyu, Hojin