01023nam a2200217 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003300093245020100126300002300327545005300350545007200403545002500475653007200500700001900572700003600591700001400627773016400641KSI00038811520050602143058050517s2002    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a530.7505b한519ㄴc2002(2)00a12″웨이퍼 spin etcher용 실시간 박막두께 측정장치의 개발=xDevelopment of real time thin film meaurement system of 12″wafer for spin etcher/d서학석,e김노유,e조중근  ap. 143-150;c30 cm  a서학석, 한국기술교육대학교 대학원  a김노유, 한국기술교육대학교 메카트로닉스 공학부  a조중근, 한국DNS  a12″웨이퍼aSpin etchera박막두께a측정장치a12″wafer1 a서학석4aut1 a김노유,d1960-0KAC2016346761 a조중근0 t(학술대회)논문집-한국비파괴검사학회.d한국비파괴검사학회.g2002년 추계(2002년 11월), p. 143-150q2002:2<143w(011001)KSE200201412