01276na  a2200265   4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002900093245018100122300002100303545005700324545006000381545005000441653012800491700005300619700004800672700005200720773016000772856002000932900002100952900001700973900002000990KSI00022853320040713050839040615s2001    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a530.05b연339ㄴc33(1)00a기판 열처리에 따른 (Pb, La)TiO₃ 박막의 유전 특성=xDielectric properties of (Pb, La)TiO₃thin films by substrate annealing/d박정흠,e마석범,e박창엽  ap. 33-37;c26 cm  a박정흠, 김포대학교 전자계열 전임교수  a마석범, 용인송담대학 전기설비과 조교수  a박창엽, 산업기술연구소 자문교수  a기판 열처리a(Pb, La)TiO₃ 박막a유전특성aDielectric propertiesa(Pb, La)TiO₃thin filmsaSubstrate annealing1 a박정흠,g朴正欽,d1967-0KAC2018315824aut1 a마석범,g馬碩範,d1962-0KAC2017212491 a박창엽,g朴昌燁,d1935-20230KAC2013074120 t논문집-연세대학교 산업기술연구소.d연세대학교 산업기술연구소.g33집 1권(2001년 6월), p. 33-37q33:1<33w(011001)KSE19950515140u3021534aKd00210aPark, Jeong-Heum10aMah, Suk-Bum10aPark, Chang-Yub