01263nam a2200265 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002800093245020000121300002300321545006000344545006000404545008500464653010900549700004500658700004800703700004800751773012200799856002000921900002000941900001800961900001800979KSI00035015020120522104812040915s1998    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a570.05b한437ㄱc9(4)00a염산용액내에서 황산 첨가에 의한 알루미늄의 교류에칭 특성=xEffect of sulfuric acid addition on the aluminum AC etching in HCL solution/d김행영,e최진섭,e탁용석  ap. 463-468;c30 cm  a김행영, 인하대학교 공과대학 화학공학과  a최진섭, 인하대학교 공과대학 화학공학과  a탁용석, 인하대학교 공과대학 화학공학과bystak@munhak.inha.ac.kr  a염산용액a황산 첨가a알루미늄a교류에칭aSulfuric acidaAluminum AC etchingaOxide films1 a김행영,g金幸泳0KAC2020581984aut1 a최진섭,g崔鎭燮,d1974-0KAC2017483061 a탁용석,g卓容奭,d1963-0KAC2017040170 t공업화학.d한국공업화학회.g9권 4호(1998년 8월), p. 463-468q9:4<463w(011001)KSE199508910,x1225-011240u3024455aKd00010aKim, Hang Young10aChoi, Jin Sub10aTak, Yong Sug