01201na  a2200265   4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002900093245016400122300002300286545008800309545006100397545007400458653008200532700005300614700003600667700003000703773012400733856002000857900002000877900001700897900002100914KSI00034153120120522105431040907s1999    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a570.05b한437ㄱc10(2)00aLPMOCVD 에 의한 Li₂O 및 Li₂CO₃박막의 증착=xLi₂O and Li₂CO₃ thin film growth by LPMOCVD/d정상철,e안호근,e이마이시노부유키  ap. 225-230;c30 cm  a정상철, 순천 대학교 공과대학 환경공학과bjsc@sunchon.sunchon.ar.kr  a안호근, 순천 대학교 공과대학 화학공학과  a이마이시노부유키, 큐슈대학교 기능물질과학연구소  aLi₂OaCVDaReaction rate constantaSticking coefficientaMonte calro method1 a정상철,g鄭相鐵,d1963-0KAC2019E71834aut1 a안호근,d1959-0KAC2018269501 a이마이시 노부유키0 t공업화학.d한국공업화학회.g10권 2호(1999년 4월), p. 225-230q10:2<225w(011001)KSE199508910,x1225-011240u3024622aKd00010aJung, Sang Chul10aAhn, Ho Geun10aNobuyuki Imaishi