01513nam a2200373 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002800093245022900121300002300350545004700373545004700420545004700467545004700514545005300561545005300614653011900667700005300786700001400839700001400853700001400867700001400881700001400895773012200909856002001031900001501051900001401066900001601080900001501096900001401111900001401125KSI00028391420041012151407040722s1996    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a570.05b한437ㄱc7(3)00a이온성 클러스터 빔 증착의 박막 형성 기구에 관한 연구=x(A)study on the film-formation mechanism by ionized cluster beam deposition/d신치범,e이경호,e황경순,e문상흡,e조원일,e윤경석  ap. 464-472;c30 cm  a신치범, 아주대학교 화학공학과  a이경호, 아주대학교 화학공학과  a황경순, 서울대학교 화학공학과  a문상흡, 서울대학교 화학공학과  a조원일, 한국과학기술원 화공연구부  a윤경석, 한국과학기술원 화공연구부  a이온화 클러스터 빔 증착a박막 형성 기구aFilm-formation mechanismaIonized cluster beam deposition1 a신치범,g愼治範,d1958-0KAC2017024434aut1 a이경호1 a황경순1 a문상흡1 a조원일1 a윤경석0 t공업화학.d한국공업화학회.g7권 3호(1996년 6월), p. 464-472q7:3<464w(011001)KSE199508910,x1225-011240u3024123aKd00010aShin, C.B.10aLee, K.H.10aHwang, G.S.10aMoon, S.H.10aCho, W.I.10aYun, K.S.