00932nam a2200217 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002700093245014300120300002300263545005000286545005000336653008300386700003300469700003600502773013600538900001800674900002200692KSI00018100520040520200419040427s1990 ulk 000 kor  a0110010 akorbeng01a581.805b한636ㅎc2300aECR 플라즈마를 이용한 실리콘질화박막 증착=xSilicon nitride thin film deposition using ECR plasma/d송선규,e장홍영 ap. 218-224;c26 cm a송선규, 한국과학기술원 물리학과 a장홍영, 한국과학기술원 물리학과 aECR 플라즈마a실리콘질화박막aSilicon nitride thin filmaECR plasma1 a송선규0KAC2020756794aut1 a장홍영,d1954-0KAC2018170180 t한국표면공학회지.d한국표면공학회.g23권 4호(1990년 8월), p. 218-224q23:4<218w(011001)KSE199509175,x1225-802410aSong, Sun-Kyu10aChang, Hong-Young