01416nam a2200289 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003000093245026800123300002300391545007400414545004300488545005300531545005300584653016700637700001900804700002800823700004800851700003600899773013600935900001301071900001301084900001401097900001501111KSI00018054920040520200414040427s1997    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a581.805b한636ㅎc30(1)00aD.C. 마그네트론 스파터링법에 의하여 증착된 TiN 다층 박막의 특성과 밀찰력에 대하여=x(The)characteristics and adhesion strength of TiN multilayer deposited by D.C. magnetron sputtering/d김선규,e유정광,e이건환,e권식철  ap. 213-222;c26 cm  a김선규, 울산대학교 공과대학 재료공학·금속공학부  a유정광, 대우전자 제 2연구소  a이건환, 한국기계연구원 박막연구실  a권식철, 한국기계연구원 박막연구실  aD.C. 마그네트론a스파터링법a증착aTiNa다층a박막a특성a밀찰력aCharacteristicsaAdhesionaStrengthaMultilayeraD.C. magnetronaSputtering1 a김선규4aut1 a유정광0KAC2020837291 a이건환,g李建煥,d1961-0KAC2018477761 a권식철,d1951-0KAC2016187860 t한국표면공학회지.d한국표면공학회.g30권 3호(1997년 6월), p. 213-222q30:3<213w(011001)KSE199509175,x1225-802410aKim, S.K10aYoo, J.K10aLee, G.H.10aKwon, S.C.