01427nam a2200289 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003000093245030700123300002100430545006000451545006000511545006000571545006000631653014900691700003300840700001400873700001400887700004800901773013300949900001301082900001401095900001401109900001401123KSI00018029120040520200411040426s1997    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a581.805b한636ㅎc30(1)00a이온플레이팅시 공정조건이 Ti 및 Ni 중간층을 갖는 TiN 박막의 내식성에 미치는 영향에 관한 연구=x(A)study on the effect of process parameters on the corrosion resistance of ion plated TiN films with Ti and Ni interlayers/d하회성,e이종민,e이인행,e이정중  ap. 33-43;c26 cm  a하회성, 서울대학교 공과대학 재료공학부  a이종민, 서울대학교 공과대학 재료공학부  a이인행, 서울대학교 공과대학 재료공학부  a이정중, 서울대학교 공과대학 재료공학부  a이온플레이팅a공정조건aTiaNia중간층aTiN박막a내식성apParametersaCorrosionaResistanceaIon plated TiN filmsaInterlayers1 a하회성0KAC2020824734aut1 a이종민1 a이인행1 a이정중,g李正中,d1951-0KAC2014282480 t한국표면공학회지.d한국표면공학회.g30권 1호(1997년 2월), p. 33-43q30:1<33w(011001)KSE199509175,x1225-802410aHa, H.S.10aLee, J.M.10aLee, I.H.10aLee, J.J.