01573nam a2200337 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002500093245024600118300003000364545007600394545007600470545007600546545007300622545007000695653012300765700004800888700001400936700001400950700001400964700001900978773012300997856002101120900001901141900001501160900002101175900002001196900001901216KSI00017380820040214160444031217s1992    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a530.05b단263ㅅc200a스퍼터링 조건에 따른 Co 박막의 증착속도 및 미세구조의 변화=x(The)change of deposition rate and microstructure of co thin film with the sputtering conditions/d백주열,e박창만,e최영근,e이기암,e황도근  ap. 31-40:b삽도;c26 cm  a백주열, 단국대학교 자연과학대학 물리학과 석사과정  a박창만, 단국대학교 자연과학대학 물리학과 석사과정  a최영근, 단국대학교 자연과학대학 물리학과 석사과정  a이기암, 단국대학교 자연과학대학 물리학과 부교수  a황도근, 상지대학교 자연과학대학 물리학과 교수  a스퍼터링a박막a증착속도a미세구조aDepositionaRateaMicrostructureaThinaFilmaSputteringaConditions1 a황도근,g黃道根,d1960-0KAC2017020691 a이기암1 a최영근1 a박창만1 a백주열4aut0 t신소재 : 연구논집.d檀國大學校 出版部.g2집(1992년), p. 31-40q2<31w(011001)KSE199502268,x1225-435540u19583039aKd00210aHwang, Do-Guwn10aLee, Ky-Am10aChoi, Young-Kuen10aPark, Chang-Man10aBaek, Ju-Yeoul