01421nam a2200301 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003100093245024200124300003000366545005300396545005300449545005300502545005300555653014900608700005300757700001400810700001400824700001400838773017100852856002001023900002101043900001701064900001601081900002201097KSI00005362620040223132819031112s1999    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a569.27405b한488ㅁc6(2)00a소성 조건에 따른 WO₃ 계 후막센서소자의 제조 및 응답특성=xFabrication and gas sensing properties of WO₃ thick film gas sensor dependent on heat-treatment condition/d정용근,e엄우식,e이회수,e최성철  ap. 63-68:b삽도;c26 cm  a정용근, 한양대학교 무기재료공학과  a엄우식, 산업기술시험원 재료평가팀  a이회수, 산업기술시험원 재료평가팀  a최성철, 한양대학교 무기재료공학과  a소성aWO₃a후막센서소자a응답특성aFabricationaGasaSensingaPropertiesaThick filmaSensoraDependentaHeat-treatmentaCondition1 a최성철,g崔成哲,d1955-0KAC2018173244aut1 a이회수1 a엄우식1 a정용근0 t마이크로전자 및 패키징학회지.d한국마이크로전자 및 패키징학회.g6권 2호(1999년 6월), p. 63-68q6:2<63w(011001)KSE199900824,x1226-936040u3347792aKd00010aChoi, Sung-Churl10aLee, Hee-Soo10aUm, Woo-Sik10aChung, Young-Keun