01530nam a2200325 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003000093245018600123300003200309545006000341545005400401545006200455545006000517545005400577653018800631700005300819700001400872700004800886700001400934700001400948773014800962900001801110900002101128900001901149900001801168900001801186KSI00017600920040224192529031010s1997    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a569.205b한597ㅈc10(7)01aCoNbZr/Cu/CoNbZr 다층막의 습식 식각 거동=x(A)behavior of the wet etching of CoNBZr/Cu/CoNBZr multi-layer films/d김현식,e이영생,e송재성,e오영우,e윤재홍  ap. 645-650:b삽도;c26 cm  a김현식, 경남대학교 공대 무기재료공학과  a이영생, 창원대학교 공대 재료공학과  a송재성, 한국전기연구소 비정질재료연구팀  a오영우, 경남대학교 공대 무기재료공학과  a윤재홍, 창원대학교 공대 재료공학과  aCoNbZr/Cu/CoNbZr 다층막a습식 식각법a염화철수용액a이방성 구조aCoNbZr/Cu/CoNbZr Multi layer filmaWet etching methodsaIron chloride solutionaIsotropic structure1 a김현식,g金賢植,d1967-0KAC2018452044aut1 a이영생1 a송재성,g宋在成,d1956-0KAC2016376211 a오영우1 a윤재홍0 t電氣電子材料學會誌.d韓國電氣電子材料學會.g10卷 7號(1997년 8월), p. 645-650q10:7<650w(011001)KSE199508720,x1225-668410aKim, Hyun Sik10aLee, Young Seang10aSong, Jae Sung10aOh, Young Woo10aYun, Jae Hong