01397nam a2200325 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003000093245018600123300002900309545006000338545006000398545006000458545005000518545005000568653007700618700001400695700001400709700004800723700001400771700005300785773014300838900001800981900001800999900001901017900001701036900001801053KSI00017595720040224192526031010s1997    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a569.205b한597ㅈc10(1)00aUV/O₃을 이용한 Si contact hole 건식세정에 관한 연구=xDry cleaning of Si contact hole using UV/O₃ method/d최진식,e고용득,e구경일,e김성일,e천희곤  ap. 8-14:b삽도;c26 cm  a최진식, 울산대학교 공과대학 재료공학과  a고용득, 울산대학교 공과대학 재료공학과  a구경완, 울산대학교 공과대학 재료공학과  a김성일, 영동공과대학 전자공학부  a천희곤, 영동공과대학 전자공학부  a건식세정a유기오염물aUVO₃, Dry cleaningaOrganic contaminant1 a최진식1 a고용득1 a구경완,g丘庚完,d1961-0KAC2016371531 a김성일1 a천희곤,g千熙坤,d1953-0KAC2013258204aut0 t電氣電子材料學會誌.d韓國電氣電子材料學會.g10卷 1號(1997년 1월), p. 8-14q10:1<8w(011001)KSE199508720,x1225-668410aChoi, Jin-Sik10aKo, Yong-Deuk10aKoo, Kyung-Wan10aKim, Sung-Il10aChun, Hui-Gon