01034nam a2200217 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002900093245012200122300003200244545008900276545008900365653011100454700005300565700001400618773014700632900001800779900001900797KSI00017593520040224192525031010s1996    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a569.205b한597ㅈc9(7)00a감광제 건식제거공정의 최적화=xOptimization of down stream plasma ashing process/d박세근,e이종근  ap. 918-924:b삽도;c26 cm  a박세근, 인하대학교 반도체 및 박막기술연구소 전자재료공학과  a이종근, 인하대학교 반도체 및 박막기술연구소 전자재료공학과  a감광제a애슁a최적화a다운 스트림 애숴aPhotoresistaAshingaOptimizationaDownstream asher1 a박세근,g朴世根,d1953-0KAC2016357744aut1 a이종근0 t電氣電子材料學會誌.d韓國電氣電子材料學會.g9卷 9號(1996년 11월), p. 918-924q9:9<918w(011001)KSE199508720,x1225-668410aPark, Se-Geun10aLee, Jong-Keun