01374nam a2200337 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003000093245017600123300003000299545004700329545004700376545004700423545005300470545004700523653010100570700001900671700004800690700001400738700004800752700001400800773013100814856002000945900001500965900001400980900001400994900001401008900001401022KSI00002158720040222131707031016s1993    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a581.3605b한563ㅇc6(1)00aPECVD에 의해 증착된 TiN 박막의 잔류응력=x(The)residual stress of TiN thin film deposited by PECVD/d송기덕,e남옥현,e이인우,e이건환,e김문일  ap. 70-78:b삽도;c26 cm  a송기덕, 연세대학교 금속공학과  a남옥현, 연세대학교 금속공학과  a이인우, 수원전문대학 열처리과  a이건환, 한국기계연구원 박막기술실  a김문일, 연세대학교 금속공학과  aPECVDa증착aTiNa박막a잔류a잔류응력a응력aResidualaStressaThin filmaDeposited1 a송기덕4aut1 a남옥현,g南玉鉉,d1964-0KAC2016279311 a이인우1 a이건환,g李建煥,d1961-0KAC2018477761 a김문일0 t열처리공학회지.d韓國熱處理工學會.g6卷 2號(1993년 6월), p. 70-78q6:2<70w(011001)KSE199508688,x1225-107040u3073157aKd00010aSong, K.D.10aNam, O.H.10aLee, I.W.10aLee, G.H.10aKim, M.I.