01693nam a2200373 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002900093245031200122300002300434545005300457545005300510545005300563545004700616545005300663545005300716653013800769700001400907700001400921700001400935700004800949700001400997700005301011773012201064856002001186900001801206900002101224900001801245900002001263900001801283900001801301KSI00003525520040205103657031030s1999    tgk           000   kor    a0110010 akorbeng01a569.805b한536ㅅc8(1)00aS<TEX>$$F_6$$</TEX>와 S<TEX>$$F_6$$</TEX>-N₂가스를 이용한 텅스텐 박막의 플라즈마 식각에 관한 연구=x(A)study on plasma etching of tungsten thin films using S<TEX>$$F_6$$</TEX> and S<TEX>$$F_6$$</TEX>-N₂gases/d고용득,e정광진,e최성호,e구경완,e조동율,e천희곤  ap. 291-297;c26 cm  a고용득, 울산대학교 재료금속공학부  a정광진, 울산대학교 재료금속공학부  a최성호, 울산대학교 재료금속공학부  a구경완, 영동대학교 전자공학부  a조동율, 울산대학교 재료금속공학부  a천희곤, 울산대학교 재료금속공학부  a텅스텐박막a플라즈마식각aS<TEX>$$F_6$$</TEX>-N₂가스aPlasma etchingaTungsten thin filmsaS<TEX>$$F_6$$</TEX>-N₂gas1 a고용득1 a정광진1 a최성호1 a구경완,g丘庚完,d1961-0KAC2016371531 a조동율1 a천희곤,g千熙坤,d1953-0KAC2013258204aut0 t센서학회지.d한국센서학회.g8권 3호(1999년 5월), p. 291-297q8:3<291w(011001)KSE199508532,x1225-547540u3316414aKd00010aKo, Yong-Deuk10aJeong, Kwang-Jin10aChoi, Song-Ho10aKoo, Kyoung-Wan10aCho, Tong-Yul10aChun, Hui-Gon