01274nam a2200301 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002900093245021800122300002100340545004700361545004300408545004700451545004700498653013200545700001900677700004800696700001400744700001400758773012000772856002000892900001400912900001600926900001500942900001500957KSI00003340520040224103554031029s1996    tgk           000   kor    a0110010 akorbeng01a569.805b한536ㅅc5(4)00a고주파 마그네트론 스펏터링법으로 제조한 ZnO 박막의 기판에 따른 효과=xSubstrate effects of ZnO films deposited by rf magnetron sputtering/d김영진,e권오준,e유상대,e김기완  ap. 68-73;c26 cm  a김영진, 경북대학교 전자공학과  a권오준, 한국전자통신연구소  a유상대, 경북대학교 전자공학과  a김기완, 경북대학교 전자공학과  a고주파a마그네트론a스펏터링법aZnO박막a기판aSubstrateaZnO filmsaZnOaDepositedarfaMagnetronaSputtering1 a유상대4aut1 a권오준,g權五駿,d1962-0KAC2018315031 a김기완1 a김영진0 t센서학회지.d한국센서학회.g5권 6호(1996년 11월), p. 68-73q5:6<68w(011001)KSE199508532,x1225-547540u3316249aKd00010aYu, S. D.10aKwon, O. J.10aKim, K. W.10aKim, Y. J.