01707nam a2200397 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003000093245027800123300003200401545005300433545005300486545005300539545004100592545004100633545004700674545005300721653013000774700005300904700001400957700002800971700001400999700001401013700001401027700001401041773012801055900001701183900001701200900001701217900002001234900001701254900001801271900002001289KSI00015558820040219194221031215s1995    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a554.9405b한622ㅎc4(1)00a열처리에 따른 CVD Cu 박막의 미세구조 및 전기 비저항의 변화=x(The)effects of the annealing on the microstructure and the electrical resistivity of the CVD copper films/d이원준,e민재식,e라사균,e이영종,e김우식,e김동원,e박종욱  ap. 164-171:b삽도;c26 cm  a이원준, 한국과학기술원 재료공학과  a민재식, 한국과학기술원 재료공학과  a라사균, 한국과학기술원 재료공학과  a이영종, LG반도체 ULSI연구소  a김우식, LG반도체 ULSI연구소  a김동원, 경기대학교 재료공학과  a박종욱, 한국과학기술원 재료공학과  a열처리aCVD Cu 박막a미세구조a전기 비저항aAnnealingaMicrostructureaElectrical resistivityaCVD copper films1 a이원준,g李源晙,d1970-0KAC2018376374aut1 a민재식1 a라사균0KAC2020685871 a이영종1 a김우식1 a김동원1 a박종욱0 t韓國眞空學會誌.d韓國眞空學會.g4권 2호(1995년 6월), p. 164-171q4:2<164w(011001)KSE199508370,x1225-882210aLee, Won-Jun10aMin, Jae-Sik10aRha, Sa-Kyun10aLee, Young-Jong10aKim, Woo-Sik10aKim, Dong-Won10aPark, Chong-Ook