01413nam a2200325 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002800093245025200121300003200373545005800405545003900463545003900502545003500541545005800576653011100634700001900745700001400764700001400778700001400792700004800806773013900854900002000993900001901013900001801032900002001050900001701070KSI00017365920040212184124031217s1996    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a569.05b대483c33(1.5)00a엑시머 레이저를 이용하여 결정화한 PECVD 및 LPCVD 비정질 실리콘 박막의 특성 분석=xCharacterization of PECVD and LPCVD a-Si films crystallized by excimer laser/d崔弘錫,e李成圭,e張根浩,e全明鐵,e韓民九  ap. 172-177:b삽도;c26 cm  a최홍석, 정회원, 서울대학교 전기공학과  a이성규, 정회원, 현대전자  a장근호, 정회원, 현대전자  a전명철, 정회원, LG전자  a한민구, 정회원, 서울대학교 전기공학과  a엑시머 레이저aPECVD 및 LPCVDa비정질실리콘aPECVD and LPCVD a-SiaCrystallized excimer laser1 a최홍석4aut1 a이성규1 a장근호1 a전명철1 a한민구,g韓民九,d1948-0KAC2017232220 t電子工學會論文誌. A.d大韓電子工學會.g33卷 6號(1996년 6월), p. 172-177q33:6<172w(011001)KSE199508730,x1016-135X10aChoi, Hong-Seok10aLee, Seong-Kyu10aJang, Keun-Ho10aJun, Myung-Chul10aHan, Min-Koo