01455nam a2200325 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003900093245023200132300003200364545007800396545005500474545005500529545003700584545003700621653009900658700001900757700001400776700001400790700002800804700004800832773015500880900001901035900001901054900001901073900001901092900001801111KSI00005464120040207083357031010s2002    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a569.205b한597ㅈㄱc15(1)-15(6)00a비열플라즈마를 이용한 CF₄ 분해에 미치는 혼합가스의 영향=xEffect of mixed gases on decomposition characteristic of CF₄ by non-thermal plasma/d박재윤,e정장근,e김종석,e김광수,e임근희  ap. 543-550:b삽도;c26 cm  a박재윤, 경남대학교 전기·전자공학부bjypark@kyungnam.ac.kr  a정장근, 경남대학교 전기·전자공학부  a김종석, 경남대학교 전기·전자공학부  a김광수, 한국전기연구원  a임근희, 한국전기연구원  a비열플라즈마a혼합가스aCF₄aBy-productaPlasmaaSemiconductoraHFCaDecomposition1 a박재윤4aut1 a정장근1 a김종석1 a김광수0KAC2018K64331 a임근희,g林根熙,d1955-0KAC2017465940 t전기전자재료학회논문지.d한국전기전자재료학회.gVol.15 no.6(2002년 6월), p. 543-550q15:6<543w(011001)KSE199800338,x1226-794510aPark, Jae-Yoon10aJung, Jang-Gun10aKim, Jong-Seck10aKim, Kwang-Soo10aLim, Keun-Hee