01188nam a2200253 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003900093245020400132300003200336545005300368545005300421545007000474653009600544700001900640700001400659700004800673773015500721900002000876900002000896900001800916KSI00005447820040207083335031010s2001    ulka          000   kor    a0110011 akorbeng01a569.205b한597ㅈㄱc14(5)-14(8)00a유도결합 플라즈마에 의해 식각된 PZT 박막의 식각 damage 개선=xRecovery of etching damage of etched PZT thin film by inductively coupled plasma/d강명구,e김경태,e김창일  ap. 551-556:b삽도;c26 cm  a강명구, 중앙대학교 전자전기공학부  a김경태, 중앙대학교 전자전기공학부  a김창일, 중앙대학교 전자전기공학부bcikim@cau.ac.kr  a유도결합a플라즈마a식각aDamageaPZTaEtchingaCF₄/Cl₂/AraICPaRe-annealing1 a강명구4aut1 a김경태1 a김창일,g金昌日,d1960-0KAC2018385740 t전기전자재료학회논문지.d한국전기전자재료학회.gVol.14 no.7(2001년 7월), p. 551-556q14:7<551w(011001)KSE199800338,x1226-794510aKang, Myoung-Gu10aKim, Kyoung-Tae10aKim, Chang-Il